该研究所特别关注材料表面新性能的创造－等离子体表面工程。我们开发了一种通过在有机硅前体的蒸气中用空心阴极在电弧放电中反应蒸发金属来获得多组分涂层的方法。放电系统的电极电路如左图所示。含硅前体从左下方供给，氮气从左上方供给。电子束和等离子体从下方加热坩埚中的钛并确保其蒸发。涂层沉积在顶部的基材上。以高达10微米/小时的涂层形成速率获得了具有高达15微米厚的致密均匀结构的超硬（高达42千兆帕斯卡）纳米复合TiSiCN涂层。涂层的质量由右边的图纸证明。