所制作光掩模的类型：
带有氧化铁掩蔽涂层；带有铬金属掩蔽涂层。
光掩模用玻璃k8 和石英作为衬底制成。
它们用于集成电路、各种用途的半导体器件等生产中的投影光刻。
明斯克无线电材料科研所设有光掩模专业实验室，配备了现代化的设备，包括技术水平为350 nm的多通道激光图像发生器及正版软件。此新设备可以对化学机械过程进行编程，能够完成检测和排除透明和不透明的缺陷（进行修底版）。
专业光掩模实验室能做到在最短的时间内生产出符合国际标准 SEMI Pxx 的产品。明斯克无线电材料科研所能够完成光掩模从设计到制造的整套工作。
技术参数：
| 部件的最小尺寸 | 0,6 µm |
| 厚度 | 从2,2 mm 到 6,4 mm |
| 工件的外形尺寸 | 127 mm (5"), 152 mm (6") 和 178 mm (7") |
| 部件边缘的粗糙度 | 不超过 0,3 µm |
| 部件的圆角 | 不超过 0,5 µm |
| 条带连接偏差 | 不超过 ±40 nm |
| 对准精度 | 不超过 ±70 nm |
所制造出的光掩模具有图案及其尺寸随时间变化的高稳定性图像的高对比度。
